پوشش‌دهی اسپینل آلومینات منیزیم بر سطح گرافیت به روش سل- ژل سیترات به منظور بهبود مقاومت به اکسیداسیون و ترشوندگی گرافیت توسط آب

Authors

  • علی صابری
  • فرهاد گلستانی فرد
Abstract:

ترشوندگی ضعیف گرافیت توسط آب، عامل اصلی محدود کننده در استفاده از این ماده ارزشمند در طراحی وکاربرد جرم‌های ریختنی دیرگداز می‌باشد. به نظر می‌رسد که یک پوشش اکسیدی پایدار بر روی گرافیت بتواند کاربرد را در محیط‌های آبی ممکن ‌سازد و در عین حال مقاومت به اکسیداسیون آن را نیز افزایش دهد. به همین منظور در این تحقیق برای بهبود تر‌شوندگی گرافیت از پوشش‌ اسپینل آلومینات منیزیوم استفاده شده است که مقادیر مختلفی اسپینل (5/0، 1، 5/1 و 2 درصد وزنی) بر سطح ذرات گرافیت اولیه پوشش داده شد. بر این اساس ابتدا محلولی از نمک‌های نیترات آلومینیوم و نیز نیترات منیزیم با نسبت مولی آلومینا به منیزیا برابر با یک تهیه گردید. سپس اسید سیتریک و آمونیاک به محلول افزوده شدند تا سل پایداری ایجاد شده سپس گرافیت وارد سل گردید. عملیات حرارتی منجر به تشکیل شبکه پلیمری(ژل گونه) شده و در نهایت با عمل کلسیناسیون، اسپینل بر سطح گرافیت تشکیل گردید. مطالعه رفتار ترشوندگی گرافیت توسط آب ونیز مقاومت به اکسیداسیون گرافیت پوشش داده شده نشان داد که پوشش نانوکریستالین اسپینلی تشکیل شده بر سطح پولک‌های گرافیت، به طور قابل توجهی منجر به بهبود ترشوندگی گرافیت در محیط آب و مقاومت به اکسیداسیون گرافیت شده‌است.

Upgrade to premium to download articles

Sign up to access the full text

Already have an account?login

similar resources

پوشش دهی اسپینل آلومینات منیزیم بر سطح گرافیت به روش سل- ژل سیترات به منظور بهبود مقاومت به اکسیداسیون و ترشوندگی گرافیت توسط آب

ترشوندگی ضعیف گرافیت توسط آب، عامل اصلی محدود کننده در استفاده از این ماده ارزشمند در طراحی وکاربرد جرم های ریختنی دیرگداز می باشد. به نظر می رسد که یک پوشش اکسیدی پایدار بر روی گرافیت بتواند کاربرد را در محیط های آبی ممکن سازد و در عین حال مقاومت به اکسیداسیون آن را نیز افزایش دهد. به همین منظور در این تحقیق برای بهبود تر شوندگی گرافیت از پوشش اسپینل آلومینات منیزیوم استفاده شده است که مقادیر ...

full text

مقایسه تأثیر وضعیت طاق باز و دمر بر وضعیت تنفسی نوزادان نارس مبتلا به سندرم دیسترس تنفسی حاد تحت درمان با پروتکل Insure

کچ ی هد پ ی ش مز ی هن ه و فد : ساسا د مردنس رد نامرد ي سفنت سرتس ي ظنت نادازون داح ي سکا لدابت م ي و نژ د ي سکا ي د هدوب نبرک تسا طسوت هک کبس اـه ي ناـمرد ي فلتخم ي هلمجزا لکتورپ INSURE ماجنا م ي دوش ا اذل . ي هعلاطم ن فدهاب اقم ي هس عضو ي ت اه ي ندب ي عضو رب رمد و زاب قاط ي سفنت ت ي هـب لاتـبم سراـن نادازون ردنس د م ي سفنت سرتس ي لکتورپ اب نامرد تحت داح INSURE ماجنا درگ ...

full text

سنتز نانوالیاف SiC به صورت درجا به منظور افزایش مقاومت به اکسیداسیون گرافیت

در این تحقیق از مزایای فناوری نانو برای بهبود مقاومت به اکسیداسیون گرافیت استفاده شده است. پوشش اولیه به روش سمانتاسیون بسته‌ای و پوشش ثانویه به روش روکش دوغابی در دمای °C 1600 و زمان 2 ساعت، بر گرافیت اعمال شده و آزمون اکسیداسیون نمونه‌ها در دمای °C 1500 انجام گرفت. شناسایی فازی پوشش‌ها در حالت قبل و بعد از اکسیداسیون، با دستگاه پراش اشعه ایکس (XRD) انجام شد و از میکروسکوپ الکترونی روبشی (SEM)...

full text

سنتز و بررسی خواص لومینسانس نانو ذرات اسپینل آلومینات منیزیم دوپ شده با ساماریوم به روش هم رسوبی

چکیده نانو کریستال های اسپینل آلومینات منیزیم به روش هم رسوبی در مجاورت سورفکتانت سنتز شدند. عملیات کلسیناسیون در دمای 800 و 1000 درجه سانتیگراد به مدت 2 ساعت انجام گردید. جهت بررسی خواص لومینسانس اسپینل آلومینات منیزیم درصد های وزنی مختلف ساماریوم به اسپینل آلومینات منیزیم افزوده شده است. با استفاده از XRD, FT-IR , TEM , DTA/TG , PL خصوصیات ساختاری مشخصه یابی شدند. نتایج XRD نشان دادند که نانو...

full text

ساخت نانوذرات اسپینل فلزات انتقالی به روش سل-ژل احتراقی و بررسی خواص مغناطیسی آن‌ها

فریت‌های نرم، مواد مغناطیسی با ساختار اسپینل هستند که دارا بودن خواص بارزی چون مقاومت الکتریکی بسیار بالا، تلفات هیسترزیس ناچیز و تراوایی بالا، این مواد را جهت استفاده در کاربردهای الکترونیکی و پزشکی بسیار مناسب ساخته است. در این پژوهش، نانوپودر فریت نرم با فرمول MFe2O4 که در آن M=Zn, Ni, Cu, Mn است، به روش سل-ژل احتراقی ساخته شد. از نیترات فلزات به‌ عنوان مواد اولیه و از ...

full text

بهینه سازی پارامترهای پاشش حرارتی HVOF، برای بهبود مقاومت به اکسیداسیون پوشش MCrAlY توسط روش سطح پاسخ

در این پژوهش به بررسی اثر پارامترهای مختلف فرایند پوشش‌دهی بر خواص نهایی پوشش‌های پاشش حرارتی بدست آمده از روش HVOF پرداخته شده است. بدین منظور با استفاده از فرایند پاسخ سطح، برای چهار پارامتر تاثیرگذار فرایند HVOF که شامل نرخ تزریق سوخت، نرخ تزریق اکسیژن، نرخ تزریق پودر و فاصله پاشش، پنج سطح مختلف در نظر گرفته شد و پاسخ‌های حداقل تخلخل و حداقل ضخامت لایه اکسیدی به عنوان عوامل بهینه کننده انتخا...

full text

My Resources

Save resource for easier access later

Save to my library Already added to my library

{@ msg_add @}


Journal title

volume 41  issue 11

pages  -

publication date 2008-02-20

By following a journal you will be notified via email when a new issue of this journal is published.

Hosted on Doprax cloud platform doprax.com

copyright © 2015-2023